Jonų pluošto garinimo įranga

Jonų pluošto garinimo įranga

Detalių
IBAE sistema sujungia elektronų-spindulį arba terminį garavimą su integruotu plataus-pluošto jonų šaltiniu. Vienu metu vykstant jonų bombardavimui plėvelės augimo metu kinetinė energija perduodama kondensuojantiems adatomams, pašalinant stulpelių mikrostruktūras ir sukuriant beveik -tūrio- tankio plonas plėveles su minimaliu drėgmės-sukeliamu spektriniu poslinkiu.
Produktų klasifikatorių
Jonų-Plonasluoksnė garinimo įranga
 
Siųsti užklausą
Aprašymas
Techniniai parametrai

IBAE sistema sujungia elektronų-spindulį arba terminį garavimą su integruotu plataus-pluošto jonų šaltiniu. Vienu metu vykstant jonų bombardavimui plėvelės augimo metu kinetinė energija perduodama kondensuojantiems adatomams, pašalinant stulpelių mikrostruktūras ir sukuriant beveik -tūrio- tankio plonas plėveles su minimaliu drėgmės-sukeliamu spektriniu poslinkiu.

 

Techninės specifikacijos

 

Parametras

Specifikacija

Bazinis slėgis

<= 5.0 x 10^(-5) Pa (achieved within 35 minutes)

Darbinis slėgis

1,0 x 10^(-1) iki 1,0 x 10^(-2) Pa

Jonų šaltinio tipas

Be tinklelio galas-Hall / Kaufmann jonų šaltinis

Jonų pluošto energija

nuo 50 eV iki 1500 eV (uždara{2}}kilpa stabilizuota)

Jonų pluošto srovės tankis

nuo 0 iki 2,5 mA/cm^2

Garavimo šaltiniai

Daugia{0}}kišeninis E-spinduolis (nuo 4 x 15 cc iki 6 x 40 cc) / pasipriešinimo valtys

Substrato laikiklis

Planetinis sukimosi įrenginys su šildymu iki 300 laipsnių C

Storis vienodumas

<= plus/minus 0.5 percent over 400 mm diameter

Valdymo sistema

Siemens S7-1500 PLC + pramoninis kompiuteris („Inficon“ nusodinimo valdiklis)

 

Pagrindinės savybės


Dviejų{0}}režimų bombardavimas:Kinetinės energijos perdavimas sutankina plėveles esant žemai substrato temperatūrai, apsaugodamas gležną optiką ir polimerinius substratus.


Uždarosios{0}}ciklos jonų stabilizavimas:Integruoti masės srauto valdikliai palaiko pastovų jonų srautą per ilgą gamybos laikotarpį, užtikrindami partijos nuoseklumą.


Modulinė vakuuminė kamera:304 l nerūdijančio plieno konstrukcija su elektro-poliruotu vidumi (Ra<= 0.2 um) and Conflat metal seals.


Automatizuotas sekos nustatymas:PLC{0}}valdomo siurblio-nuleidimo, nusodinimo ir išleidimo ciklai sumažina veikimo skirtumus.

 

Vakuuminės sistemos konfigūracija


Grūdinimo siurbliai:Sausos šaknys ir sukamieji siurbliai be alyvos-.


Aukšto vakuumo siurblys:Magnetiškai levituotas turbomolekulinis siurblys (1600 L/s).


Matuokliai:Pirani, šaltojo katodo ir Baratron talpos manometrų derinys.


Vožtuvai:Pneumatiniai vartai ir kampiniai vožtuvai su techniniais apsauginiais užraktais.

 

Garavimo medžiagų ir substrato suderinamumas


Oksidai:SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5, Al2O3


Fluorai:MgF2, LaF3


Metalai:Au, Ag, Al, Ti, Cr


Substratai:Lydytas silicio dioksidas, BK7, silicio plokštelės, germanis, cinko selenidas (ZnSe) ir karščiui -atsparus poliimidas.

 

Programos


Tiksli optika:Siauro dažnio pralaidumo filtrai ir DWDM dangos, kurioms reikalingas stabilus centrinis bangos ilgis.


Lazerinė optika:Didelio-pažeidimo-slenksčio atšvaitai ir neatspindi{2}}dangos.


Puslaidininkiai ir fotonika:Dielektriniai apsauginiai sluoksniai, pasyvinimas ir optiniai bangolaidžiai.


Saulės energija:Skaidraus laidaus oksido (TCO) sąsajos modifikavimas.

 

Tinkinimas


Kameros dydis:Keičiamas skersmuo nuo 600 mm iki 1200 mm.


Šaltinio išdėstymas:Iki trijų e-spindulių ir keli šilumos šaltiniai vienoje platformoje.


In-Situ metrologija:Plačiajuosčio optinio stebėjimo (BOM) arba kvarco kristalų mikrobalanso (QCM) integracija.


Automatika:Robotinės substrato įkėlimo sąsajos, atitinkančios SEMI standartus.

 

Kokybės kontrolė


Nuotėkio aptikimas:Helio masės spektrometro tyrimas vienoje kameroje (jautrumas<= 1 x 10^(-10) Pa*m^3/s).


Komponentų tiekimas:1 lygio pramoniniai prekių ženklai (Inficon, MKS, Edwards, Siemens).


Gamyklinis priėmimas (FAT):72 valandų nepertraukiamas sausas važiavimas ir patikrinimo danga, išmatuojanti lūžio rodiklį ir vienodumą prieš išsiunčiant.

 

Diegimas ir techninė pagalba


Dokumentacija:Pilnas anglų kalbos paketas, įskaitant elektros schemas, P&ID diagramas ir PLC šaltinio kodus.


Lauko paslaugos:Įdiegimas iki galo, vakuuminis kalibravimas ir receptų derinimas, kurį atlieka programų inžinieriai.


Nuotolinė diagnostika:Saugus VPN modulis programinės įrangos ir procesų trikčių šalinimui.

 

DUK

 

K: Kaip jonų pagalba keičia oksido lūžio rodiklį?

A: Energinis jonų bombardavimas išstumia įstrigusias dujas ir sutankina mikrostruktūrą, perkeldamas tokių plėvelių kaip Ta2O5 ir TiO2 lūžio rodiklį arčiau tūrinių verčių.

Kl .: koks yra tipiškas jonų šaltinio priežiūros intervalas?

A: Techninės priežiūros intervalai svyruoja nuo 150 iki 300 apdorojimo valandų, priklausomai nuo proceso dujų ir darbinės galios tankio.

Kl.: Ar ši sistema gali valdyti reaktyvius dujų procesus?

A: Taip. Nepriklausomi masės srauto reguliatoriai įpurškia reaktyviąsias dujas (O2, N2) tiesiai į jonų šaltinio ir kameros zonas, sujungtas apsauginiais slėgio jungikliais.

 

Populiarus Žymos: jonų pluošto garinimo įranga, Kinijos jonų pluošto garinimo įrangos gamintojai, tiekėjai, gamykla

Siųsti užklausą
Susisiekite su mumisjei turite klausimų

Galite susisiekti su mumis telefonu, elektroniniu paštu arba žemiau esančia forma. Mūsų specialistas netrukus su jumis susisieks.

Susisiekite dabar!