Produkto apžvalga
Ši elektronų pluošto išgarinimo plonasluoksnė įranga sukurta didelio{0}}tikslumo fiziniam garų nusodinimui (PVD). Naudodama sufokusuotą didelės-energijos elektronų pluoštą, kad bombarduotų žaliavas, sistema pasiekia aukštą metalų, oksidų ir dielektrinių medžiagų išgaravimą aukštu -lydymosi-tašku.
Sukurta pagal modulinę vakuumo architektūrą, sistema talpina kelių{0}}kišeninius elektronų pabūklus, tinkinamus pagrindo tvirtinimo elementus ir pažangų stebėjimą vietoje. Jis aptarnauja mokslinių tyrimų ir plėtros laboratorijas ir didelio našumo{3}}gamybines linijas, kurioms reikalinga griežta plėvelės stechiometrijos, sukibimo ir optinių savybių kontrolė.
-
Aukšto vakuumo elektronų pluošto garinimo įrangaEBE{0}}Series didelio vakuumo elektronų pluošto garinimo sistema nusodina didelio-grynumo plonas plėveles, skirtas optinėms, puslaidininkinėms ir metalurginėms reikmėms. Nukreipdama magnetiniu...Peržiūrėti daugiau
-
Elektronų pluošto plonasluoksnio nusodinimo sistemaElektroninio pluošto plonos plėvelės nusodinimo sistema užtikrina kryptingą, didelio{0}}grynumo PVD apdorojimą pažangiems tyrimams ir pramoninei gamybai. Naudodama fokusuotą, magnetiniu būdu...Peržiūrėti daugiau
-
Elektronų pluošto vakuuminio garinimo įrangaŠi elektronų pluošto vakuuminio garinimo sistema atlieka aukšto -lydymosi- metalų, oksidų ir dielektrikų fizinį garų nusodinimą (PVD). Nukreipdama sufokusuotą elektronų spindulį į...Peržiūrėti daugiau
-
Elektronų pluošto plonasluoksnio nusodinimo įrangaŠioje pramoninėje elektronų pluošto nusodinimo sistemoje naudojami magnetinio fokusavimo elektronų pabūklai (3 kW–15 kW), kad nukreiptų didelio-tankio energijos srautus į vandeniu-aušinamus...Peržiūrėti daugiau
-
Elektronų pluošto išgarinimo plonasluoksnė sistemaEBE-Series elektronų pluošto garinimo sistema sukurta fiziniam aukšto -lydymosi-taško metalų, dielektrikų ir optinių medžiagų nusodinimui garais (PVD). Naudodama magnetiniu būdu nukreiptą,...Peržiūrėti daugiau
-
Elektronų pluošto išgarinimo plonasluoksnė įrangaEBE{0}}V600 serija yra pramoninio-masto fizinio nusodinimo garais (PVD) platforma, sukurta tiksliai plona-plėvele padengti optinius komponentus, puslaidininkinius įrenginius ir pažangias...Peržiūrėti daugiau
Techninės specifikacijos
|
Parametras |
Specifikacijų diapazonas |
Pastabos / standartinė konfigūracija |
|
Galutinis bazinis slėgis |
< 5.0 × 10^-6 Pa |
Pasiekiama naudojant kriogenines arba turbo{0}}molekulines siurbimo grupes |
|
Kameros matmenys |
Pritaikyta pagal užsakymą (vidinis skersmuo nuo 500 mm iki 1200 mm) |
304L / 316L nerūdijantis plienas, elektro-poliruotas |
|
E-Ginklų galios įvertinimas |
nuo 6 kW iki 15 kW (daugia{2}} kišenių šlavimo generatoriai) |
Programuojamas pluošto nukreipimas ir kelių{0}}tiglių indeksavimas |
|
Nusėdimo norma |
nuo 0,1 nm/s iki 10 nm/s |
Valdymas realiuoju laiku-uždarytas-kilpas per kvarcinio kristalo monitorių |
|
Plėvelės storio vienodumas |
< ±1% to ±2% across standard substrates |
Planetinis arba kupolinis pagrindo įtaisas su kintamu sukimosi greičiu |
|
Pagrindo temperatūra |
Aplinka iki 800 laipsnių |
Integruotas spindulinis šildymas su PID šiluminiu grįžtamuoju ryšiu |
Pagrindinės įrangos savybės
Didelio{0}}stabilumo elektroninis ginklas:
Pasižymi magnetiniu nukreipimu ir kelių{0}}taškų fokusavimu, kad būtų išvengta vietinio žaliavų perkaitimo ir pašalintas spjaudymasis reaktyvaus garavimo metu.
Modulinio tiglio dizainas:
Įrengti 4–6 -kišeniniai indeksuojami židiniai, leidžiantys atlikti kelių sluoksnių nusodinimą nepažeidžiant vakuumo.
Pažangus vakuuminis blokavimas:
PLC{0}}valdomi pneumatiniai vožtuvai, automatizuotas neapdorotas/didelis{1}}vakuuminis sekvenavimas ir užraktai apsaugo nuo aušinimo vandens trūkumo ir maitinimo anomalijų.
Mažo-užteršimo kamera:
Vidiniam ekranavimui naudojamas elektro{0}}poliruotas nerūdijantis plienas su nuimamais įdėklais, kad būtų galima greitai sumažinti kietųjų dalelių kiekį ir atlikti techninę priežiūrą.
Plėvelės medžiagos ir substratai
Suderinamos garavimo medžiagos
Metalai: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrikai ir oksidai: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO
Pagrindo tipai
Silicio plokštelės (nuo 2 colių iki 12 colių)
Optinio stiklo, lydyto silicio dioksido ir kvarco substratai
Lanksčios polimerinės plėvelės (poliimidas, PET per ritininius{0}}to{1}}modulius)
Keraminiai pagrindai (Al2O3, AlN)
Programos

Optinės dangos:
Anti-atspindinčios (AR) dangos, siauros juostos-filtrai ir didelio-atspindinčiojo veidrodžiai, skirti lazerinėms ir fotoninėms sistemoms.

Puslaidininkiniai įtaisai:
Mikroelektronikos ominis kontaktų formavimas, vartų metalizavimas ir pakėlimo{0}} apdorojimas.

Optoelektronika:
Skaidrūs laidaus oksido (TCO) sluoksniai ir plonos plėvelės, skirtos OLED ekranams ir fotovoltiniams elementams.

Išplėstiniai tyrimai ir plėtra:
Tiriamieji plonos{0}plėvelės magnetiniai sluoksniai, superlaidžios plėvelės ir daugiasluoksnės heterostruktūros.
Tinkinimas ir sistemos konfigūravimas
Kiekviena plonasluoksnė{0}}sistema sukonfigūruota taip, kad atitiktų konkrečius proceso receptus ir įrenginių išdėstymą. Galimi inžineriniai pritaikymai apima:
Siurbimo kamino pasirinkimas:
Turbo{0}}molekuliniai siurbliai (TMP), kriosiurbliai arba alyvos-difuzijos konfigūracijos, pritaikytos pagal pagrindinius vakuumo ir pralaidumo reikalavimus.
Įkelti{0}}Užrakto integravimą:
Rankinio įkėlimo-užrakto arba automatizuotos kelių-kamerų grupių sistemos, užtikrinančios itin-didelį vakuumo vientisumą ir padidinančios plokštelių pralaidumą.
In-Situ metrologija:
Spektroskopinių elipsometrų, optinių monitorių arba liekamųjų dujų analizatorių (RGA) integravimo prievadai.
Valdymo programinė įranga:
Patentuota PLC/HMI sąsaja su receptų saugojimu, duomenų registravimu ir SECS/GEM ryšio protokolais sumaniam gamyklos integravimui.
Gamyba ir kokybės kontrolė
Laivo gamyba:
Visose vakuuminėse kamerose atliekamas helio masės spektrometro nuotėkio bandymas, kai atmetimo slenkstis yra < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.
Suvirinimo vientisumas:
TIG suvirinimas atliekamas naudojant apsaugines inertines dujas, po to vidinio paviršiaus pasyvavimas ir mechaninis poliravimas, siekiant sumažinti dujų išsiskyrimą.
Gamyklinis priėmimo bandymas (FAT):
72-valandų nepertraukiamo sauso veikimo-bandymas, matuojant siurbimo kreives, elektroninio pistoleto šlavimo tikslumą, blokavimo reakcijos laiką ir terminį stabilumą prieš išmetant dėžę.
Atitiktis ir standartai:
Pagaminta pagal ISO 9001 sertifikuotą kokybės valdymo sistemą, o sistemos suprojektuotos taip, kad atitiktų CE direktyvas ir atitinkamas SEMI (S2/S8) saugos ir ergonomikos gaires.
DUK
Esame gerai{0}}žinomi kaip vieni iš pirmaujančių elektronų pluošto garinimo plonasluoksnės įrangos gamintojų ir tiekėjų Kinijoje. Jei ketinate įsigyti pritaikytą Kinijoje pagamintą elektronų pluošto garinimo plonasluoksnę įrangą, kviečiame gauti mūsų gamyklos kainoraštį. Dėl kainų konsultacijos susisiekite su mumis.
