Produkto apžvalga

 

Ši elektronų pluošto išgarinimo plonasluoksnė įranga sukurta didelio{0}}tikslumo fiziniam garų nusodinimui (PVD). Naudodama sufokusuotą didelės-energijos elektronų pluoštą, kad bombarduotų žaliavas, sistema pasiekia aukštą metalų, oksidų ir dielektrinių medžiagų išgaravimą aukštu -lydymosi-tašku.


Sukurta pagal modulinę vakuumo architektūrą, sistema talpina kelių{0}}kišeninius elektronų pabūklus, tinkinamus pagrindo tvirtinimo elementus ir pažangų stebėjimą vietoje. Jis aptarnauja mokslinių tyrimų ir plėtros laboratorijas ir didelio našumo{3}}gamybines linijas, kurioms reikalinga griežta plėvelės stechiometrijos, sukibimo ir optinių savybių kontrolė.

 
 
Techninės specifikacijos

 

Parametras

Specifikacijų diapazonas

Pastabos / standartinė konfigūracija

Galutinis bazinis slėgis

< 5.0 × 10^-6 Pa

Pasiekiama naudojant kriogenines arba turbo{0}}molekulines siurbimo grupes

Kameros matmenys

Pritaikyta pagal užsakymą (vidinis skersmuo nuo 500 mm iki 1200 mm)

304L / 316L nerūdijantis plienas, elektro-poliruotas

E-Ginklų galios įvertinimas

nuo 6 kW iki 15 kW (daugia{2}} kišenių šlavimo generatoriai)

Programuojamas pluošto nukreipimas ir kelių{0}}tiglių indeksavimas

Nusėdimo norma

nuo 0,1 nm/s iki 10 nm/s

Valdymas realiuoju laiku-uždarytas-kilpas per kvarcinio kristalo monitorių

Plėvelės storio vienodumas

< ±1% to ±2% across standard substrates

Planetinis arba kupolinis pagrindo įtaisas su kintamu sukimosi greičiu

Pagrindo temperatūra

Aplinka iki 800 laipsnių

Integruotas spindulinis šildymas su PID šiluminiu grįžtamuoju ryšiu

 

Pagrindinės įrangos savybės

Didelio{0}}stabilumo elektroninis ginklas:

Pasižymi magnetiniu nukreipimu ir kelių{0}}taškų fokusavimu, kad būtų išvengta vietinio žaliavų perkaitimo ir pašalintas spjaudymasis reaktyvaus garavimo metu.

Modulinio tiglio dizainas:

Įrengti 4–6 -kišeniniai indeksuojami židiniai, leidžiantys atlikti kelių sluoksnių nusodinimą nepažeidžiant vakuumo.

 

Pažangus vakuuminis blokavimas:

PLC{0}}valdomi pneumatiniai vožtuvai, automatizuotas neapdorotas/didelis{1}}vakuuminis sekvenavimas ir užraktai apsaugo nuo aušinimo vandens trūkumo ir maitinimo anomalijų.

Mažo-užteršimo kamera:

Vidiniam ekranavimui naudojamas elektro{0}}poliruotas nerūdijantis plienas su nuimamais įdėklais, kad būtų galima greitai sumažinti kietųjų dalelių kiekį ir atlikti techninę priežiūrą.

 

 

Plėvelės medžiagos ir substratai

 

Suderinamos garavimo medžiagos

Metalai: Au, Ag, Al, Ti, Cr, Ni, Pt, Cu, Mo, W
Dielektrikai ir oksidai: SiO2, TiO2, Al2O3, Ta2O5, HfO2, ITO

 

Pagrindo tipai

Silicio plokštelės (nuo 2 colių iki 12 colių)
Optinio stiklo, lydyto silicio dioksido ir kvarco substratai
Lanksčios polimerinės plėvelės (poliimidas, PET per ritininius{0}}to{1}}modulius)
Keraminiai pagrindai (Al2O3, AlN)

 
 
 
Programos
High Vacuum Electron Beam Evaporation Equipment

Optinės dangos:

Anti-atspindinčios (AR) dangos, siauros juostos-filtrai ir didelio-atspindinčiojo veidrodžiai, skirti lazerinėms ir fotoninėms sistemoms.

Electron Beam Thin Film Deposition System

Puslaidininkiniai įtaisai:

Mikroelektronikos ominis kontaktų formavimas, vartų metalizavimas ir pakėlimo{0}} apdorojimas.

Electron Beam Vacuum Evaporation Equipment

Optoelektronika:

Skaidrūs laidaus oksido (TCO) sluoksniai ir plonos plėvelės, skirtos OLED ekranams ir fotovoltiniams elementams.

Electron Beam Evaporation Thin Film System

Išplėstiniai tyrimai ir plėtra:

Tiriamieji plonos{0}plėvelės magnetiniai sluoksniai, superlaidžios plėvelės ir daugiasluoksnės heterostruktūros.

 

Tinkinimas ir sistemos konfigūravimas
 
 

Kiekviena plonasluoksnė{0}}sistema sukonfigūruota taip, kad atitiktų konkrečius proceso receptus ir įrenginių išdėstymą. Galimi inžineriniai pritaikymai apima:

 

Siurbimo kamino pasirinkimas:

Turbo{0}}molekuliniai siurbliai (TMP), kriosiurbliai arba alyvos-difuzijos konfigūracijos, pritaikytos pagal pagrindinius vakuumo ir pralaidumo reikalavimus.

 
 

Įkelti{0}}Užrakto integravimą:

Rankinio įkėlimo-užrakto arba automatizuotos kelių-kamerų grupių sistemos, užtikrinančios itin-didelį vakuumo vientisumą ir padidinančios plokštelių pralaidumą.

 
 

In-Situ metrologija:

Spektroskopinių elipsometrų, optinių monitorių arba liekamųjų dujų analizatorių (RGA) integravimo prievadai.

 
 

Valdymo programinė įranga:

Patentuota PLC/HMI sąsaja su receptų saugojimu, duomenų registravimu ir SECS/GEM ryšio protokolais sumaniam gamyklos integravimui.

 

 

 
 
Gamyba ir kokybės kontrolė
01.

Laivo gamyba:

Visose vakuuminėse kamerose atliekamas helio masės spektrometro nuotėkio bandymas, kai atmetimo slenkstis yra < 1 × 10^-9 Pa·m³/s.

02.

Suvirinimo vientisumas:

TIG suvirinimas atliekamas naudojant apsaugines inertines dujas, po to vidinio paviršiaus pasyvavimas ir mechaninis poliravimas, siekiant sumažinti dujų išsiskyrimą.

03.

Gamyklinis priėmimo bandymas (FAT):

72-valandų nepertraukiamo sauso veikimo-bandymas, matuojant siurbimo kreives, elektroninio pistoleto šlavimo tikslumą, blokavimo reakcijos laiką ir terminį stabilumą prieš išmetant dėžę.

04.

Atitiktis ir standartai:

Pagaminta pagal ISO 9001 sertifikuotą kokybės valdymo sistemą, o sistemos suprojektuotos taip, kad atitiktų CE direktyvas ir atitinkamas SEMI (S2/S8) saugos ir ergonomikos gaires.

 

Diegimas ir techninė pagalba
Eksploatacijos pradžia-:
Gamyklos-sertifikuoti techninės priežiūros inžinieriai tvarko mechaninį padėties nustatymą, komunalines pajungimus (maitinimą, aušinimo vandenį, suslėgtą orą) ir pradinį vakuuminį kepimą-.
Proceso derinimas:
Bandomieji bandymai atliekami naudojant kliento{0}}nurodytus substratus, siekiant patikrinti nusėdimo greitį, vienodumą ir plėvelės sukibimą.
Gyvavimo ciklo priežiūra:
Garantuojamas daug{0}}dėvinčių komponentų (gijų, tiglių, skydų) atsarginių dalių ir nuotolinės diagnostikos palaikymas naudojant šifruotus pramoninius VPN ryšius.

 

 

DUK

 

 

Kl .: koks yra įprastas standartinės sistemos konfigūracijos pristatymo laikas?

A: Standartinės konfigūracijos pristatomos per 16–20 savaičių nuo brėžinio patvirtinimo. Labai pritaikytos sistemos, kurioms reikia specialios apkrovos-užrakto konfigūracijos arba ne-standartinės kameros geometrijos, trunka nuo 24 iki 30 savaičių.

Kl.: kaip išvengti įvairių garintuvų{0}}kryžminio medžiagų užteršimo?

A: Sistemoje naudojamos atskiros vandeniu{0}}aušinamos židinio kišenės, atskirtos šiluminėmis ir fizinėmis kliūtimis, kartu su optimizuotais elektronų pluošto šlavimo modeliais, kurie pašalina medžiagos taškymąsi.

Kl.: Kokie yra įrenginio komunalinių paslaugų reikalavimai 10 kW sistemai?

A: Requirements typically include 3-phase 380V/480V AC power, closed-loop chilled water supply (10–15°C, flow rate >30 L/min.), o pneumatiniams vožtuvams – sausas suslėgtas oras (0,6–0,8 MPa).

Esame gerai{0}}žinomi kaip vieni iš pirmaujančių elektronų pluošto garinimo plonasluoksnės įrangos gamintojų ir tiekėjų Kinijoje. Jei ketinate įsigyti pritaikytą Kinijoje pagamintą elektronų pluošto garinimo plonasluoksnę įrangą, kviečiame gauti mūsų gamyklos kainoraštį. Dėl kainų konsultacijos susisiekite su mumis.

Siųsti užklausą
Susisiekite su mumisjei turite klausimų

Galite susisiekti su mumis telefonu, elektroniniu paštu arba žemiau esančia forma. Mūsų specialistas netrukus su jumis susisieks.

Susisiekite dabar!