IA-serijos jonų-pagalbinė plonasluoksnio nusodinimo įranga integruoja elektronų-spindulio terminį garinimą su Kaufmano arba End-Hall jonų šaltiniu. Energetinis jonų bombardavimas (argono/deguonies mišinys) nusodinimo metu perkelia impulsą adatomams, pašalina stulpelių tuštumas, slopina drėgmės sugėrimą ir stabilizuoja lūžio rodiklius. Sukurta didelio-tikslumo moksliniams tyrimams ir plėtrai bei nuolatinei gamybai, nerūdijančio-plieno kamera palaiko žemesnį nei 5 x 10^-6 Pa bazinį slėgį, kad būtų sukurta tanki, stechiometrinė plona optika, jutikliai ir puslaidininkiai.
Techninės specifikacijos
|
Parametras |
Specifikacijos detalės |
|
Kameros matmenys |
Phi 800 mm x 700 mm (pritaikoma iki Phi 1200 mm) |
|
Bazinis slėgis |
<= 5.0 x 10^-6 Pa (Achieved within 40 minutes from atmosphere) |
|
Darbinis slėgis |
1,0 x 10^-2 Pa iki 8,0 x 10^-1 Pa |
|
Garavimo šaltiniai |
Daugia{0}}kišeninis e-pistoletas (6 x 15 cc arba 4 x 40 cc) su šlavimo valdymu |
|
Jonų šaltinio tipas |
Tinklelis-pagrįstas Kaufmano / End-Hall (jonų energija: 50 - 1500 eV) |
|
Substrato tvirtinimas |
Planetos sukimasis (0 - 25 aps./min.) su šildytuvu (RT - 350 laipsnis) |
|
Storio kontrolė |
Dviejų{0}}kanalų kvarco kristalų monitorius (QCM) / optinio stebėjimo parinktis |
|
Siurbimo sistema |
Magnetinė levitacinė turbomolekulinė + šaknys + sukamosios mentelės atraminis siurblys |
Pagrindinės savybės
Mikrostruktūros tankinimas:Vienu metu vykdomas jonų bombardavimas padidina pakavimo tankį, kuris yra artimas tūrinėms vertėms, nes suardomos grūdų ribos.
Vidinis streso valdymas:Reguliuojamas jonų -ir -atomo patekimo santykis apsaugo nuo plėvelės išsisluoksniavimo ant trapių substratų (silicio, germanio, lydyto silicio dioksido).
Padidintas sukibimas:Išankstinis valymas jonų ėsdinimo būdu pašalina vietinius oksidus ir paviršiaus teršalus prieš nusodinant.
Uždarojo{0}}ciklo automatizavimas:PLC architektūra automatizuoja vakuumo seką, sklendės įjungimą, galios padidinimą ir dujų MFC.
Šiluminė izoliacija:Vandeniu-aušinamos kameros sienos ir radiacijos skydai apsaugo substratus nuo e-spindulio židinio spinduliuotės.
Vakuuminės sistemos konfigūracija
Didelio{0}}vakuuminis siurblys:Magnetinis levitacijos turbomolekulinis siurblys (1600 l/s N2), skirtas veikti be alyvos.
Grūdinimo etapas:Tiesioginės-pavaros sukamoji mentė suporuota su Roots pūstuvu, kad būtų galima greitai pereiti.
Sandarinimas ir vožtuvai:Pneumatiniai sklendės su Viton/Metal bakeout{0}}įvertintais sandarikliais.
Užraktai:Pirani ir šaltojo katodo matuokliai, integruoti su apsaugos nuo viršslėgio grandinėmis.
Medžiagų suderinamumas
Garavimo medžiagos:
Oksidai (SiO2, Ta2O5, TiO2, Nb2O5)
Fluorai (MgF2, YF3)
Ugniai atsparūs metalai (Ti, Cr, Al)
Pagrindo medžiagos:
Lydytas silicio dioksidas, optinis stiklas, ZnSe, silicio plokštelės, GaAs, nerūdijantis plienas.
Programos
Tiksli optika:Lazerinių ir DWDM telekomunikacijų sistemų anti-atspindinčios dangos, pralaidumo filtrai ir didelio-atspindinčiojo veidrodžiai.
IR langai:Apsauginės, patvarios anti{0}}atspindinčios plėvelės ant germanio ir silicio šiluminio vaizdo optikų.
Puslaidininkiai:Dielektrinės izoliacinės plėvelės ir metaliniai kontaktiniai pasyvavimo sluoksniai.
Optoelektronika:Skaidrūs laidūs oksido sluoksniai jutiklių matricoms ir plokščioms plokštėms.
Tinkinimo parinktys
Kameros geometrija:Pritaikomi voko matmenys, skirti specializuotoms gamybos drožlėms arba didelio formato -optikai.
Šaltinio integravimas:Dviejų e{0}}pistoletų konfigūracijos, šiluminės varžos valtys arba reaktyvūs terminio krekingo šaltiniai.
Automatika:SECS/GEM{0}}suderinamas šviečia-gamybos programinės įrangos paketai.
Pagrindo tvirtinimo detalės:Individualūs laikikliai lenktiems lęšiams, mikro{0}}prizmėms arba 300 mm plokštelėms.
Kokybės kontrolė ir gamyklos bandymai
Atitikties standartai:Sukurta pagal CE ir SEMI S2/S8 švarių patalpų gaires.
Nuotėkio aptikimas:Visų suvirinimo siūlių helio masės spektrometro bandymas (nuotėkio greitis<= 1 x 10^-10 Pa*m^3/s).
Įdegti-:72 valandas trunkantis nepertraukiamas mechaninių įvadų ir blokavimo priemonių sausasis važiavimas.
Vienodumo patikrinimas:Spektrofotometrinė analizė, patvirtinanti storio pasiskirstymą +/- 1 % per visą laikiklį.
Montavimas, pristatymo laikas ir techninė pagalba
Pristatymo laikas:Standartinis gamybos, riebiųjų medžiagų ir dėžių pristatymo laikas yra nuo 16 iki 20 savaičių nuo techninio pasirašymo{2}}ir deponavimo.
Svetainės paruošimas:Išsamus komunalinių paslaugų vadovas pateiktas iš anksto (nurodomas atšaldyto vandens srautas, 380 V galia ir suslėgtas oras).
Paleidimas:Įdiegimas, kalibravimas ir proceso derinimas-svetainėje, kurį atlieka vyresnieji inžinieriai.
Viso gyvavimo ciklo palaikymas:Vietoje sukauptos svarbios atsarginės dalys (gijos, kvarco kristalai, sandariklių rinkiniai) greitam išsiuntimui.
Dažnai užduodami klausimai
Kl .: koks yra jonų šaltinio tinklelio priežiūros intervalas?
A: Tinklelis valomas ir kaitinimo siūlas keičiamas kas 150–300 darbo valandų, priklausomai nuo reaktyviųjų dujų. Greito-išleidimo dizainas leidžia apsikeisti greičiau nei per 30 minučių.
Kl.: kaip jonų{0}}nusodinimas (IAD) veikia optines dangas?
A: IAD pašalina drėgmės poslinkius griūdama stulpelių struktūras. Pavyzdžiui, SiO2 plėvelės išlaiko stabilų lūžio rodiklį 1,46 drėgnoje aplinkoje.
K: Ar reaktyvių dujų procesai valdomi saugiai?
A: Taip. Masės srauto valdikliai reguliuoja O2 arba N2 įpurškimą tiesiai į jonų šaltinį, palaikomą automatinio uždarymo{3}}apsauginiais vožtuvais ir išvalymo ciklais.
K: Kokie yra komunalinių paslaugų reikalavimai?
A: Chilled cooling water (>= 50 L/min, 18 - 22 laipsnių C), suslėgtas oras (0.4 - 0.6 MPa) ir tam skirti 3 fazių elektros tiekimas.
Populiarus Žymos: ion-pagalbinė plonasluoksnio nusodinimo įranga, Kinija jon-pagalbos plonasluoksnės nusodinimo įrangos gamintojai, tiekėjai, gamykla
